半導體是常溫下導電性能介于導體和絕緣體中間的一種材料,經常被用來生產制作電子元器件,其生產廢水主要來自于半導體生產工序中的腐蝕段,如線路板上的銅錢是線路板銅箔紙賦箔賦銅之后做的蝕刻,由于使用了大量的氫氟酸、氟化銨等試劑,污染物濃度較高,如氟、氨等,廢水一般呈強酸性。
值得提及的是,廢水中的氟離子若含量超標,不僅會對人類身體健康產生威脅,還會對生態環境造成不可逆轉的危害,加之環保政策的日漸嚴苛,眾多地市排放標準提高,因此半導體企業對于含氟廢水排放問題很重視,處理含氟廢水迫在眉睫。
深度除氟劑,共有8款產品,可適用于半導體行業廢水,出水氟離子含量可穩定降至0.5mg/L以下,相比市面其它除氟產品,污泥量可以減少30-50%,并且無需吸附法繁瑣流程,除氟反應只需要10-15分鐘。
我們擁有大量的半導體行業除氟案例,可以為您提供全系列深度除氟產品+工藝包+深度除氟系統,并且擁有一支經驗豐富的技術團隊,提供除氟一體化的整體解決方案。
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